高雄市立美術館（高美館）今（28）日正式公布了「2026縫隙計畫 KMFA：In-Between」的徵件結果，為今年秋季的藝術盛事揭開序幕。經過嚴謹的初選、複審及決選程序，最終有7組才華洋溢的藝術家與團隊從激烈的競爭中脫穎而出，其作品將在美術館的各個「縫隙」空間中綻放。
獲選名單亮點與從缺展區
本次計畫分為「公開徵件」與「邀請比件」兩大類別。在公開徵件部分，共有5組團隊獲選，分別是B區的Jerry與簡妤珊、C區的簡莉芸與黃婕瑛、D區的著陸方法工作室、E區的蔡旻翰，以及G區的森屾創作設計有限公司。而在邀請比件中，K區由趙尉翔與丁建中兩位藝術家共同拿下。
值得注意的是，包括A、F、H、I、J在內的多個展區最終結果為「從缺」。高美館表示，此次徵件競爭相當激烈，為維持展覽的最高品質與標準，部分展區在沒有最適合的作品提案下，寧願留白。此舉不僅凸顯了評選的嚴謹，也讓外界更加期待最終獲選作品的呈現水準。
秋季登場 探索藝術與空間的對話
「縫隙計畫」是高美館近年極具指標性的藝術計畫，旨在邀請藝術家探索美術館內外的非典型展覽空間，透過創作與場域進行深度對話。此次獲選的藝術家們，接下來將進入緊鑼密鼓的創作階段。
高美館表示，感謝所有提案團隊的熱情參與，也期待未來能有更多交流機會。本次「2026縫隙計畫」的成果展覽預計將在今年秋季正式登場，邀請市民朋友屆時一同走進美術館，感受藝術如何填補、詮釋並活化這些獨特的城市縫隙，體驗一場別開生面的藝術之旅。
